En el mundo de la tecnología, hay un componente esencial que, aunque invisible, es crucial: el microchip. Este diminuto dispositivo es el corazón de millones de aparatos electrónicos, y su fabricación depende de una técnica conocida como litografía, el arte de grabar patrones microscópicos sobre obleas de silicio. En este ámbito, la empresa holandesa ASML se ha posicionado como un líder indiscutible, revolucionando la industria con su tecnología de litografía EUV (ultravioleta extremo).
Desde su fundación en 1984, ASML ha recorrido un largo camino, comenzando con lámparas de vapor de mercurio que emitían luz azul con una longitud de onda de 436 nm, suficiente para crear transistores de 1 micrómetro. El avance tecnológico llevó a transiciones significativas, como el uso de láseres excímeros, que permitieron reducir la longitud de onda y, por ende, el tamaño de los transistores. Esta evolución culminó con el uso de la tecnología EUV, que emplea longitudes de onda de 13,5 nm, permitiendo imprimir circuitos mucho más pequeños y eficientes.
El desarrollo de la litografía EUV fue una apuesta arriesgada que comenzó en los años 80, logrando un hito en 1994 con la creación de un prototipo que demostraba su viabilidad. Sin embargo, la consolidación de esta tecnología no fue inmediata y requirió años de inversión y desarrollo. Finalmente, en 2016, la litografía EUV se estableció como un estándar de la industria, y ASML alcanzó un hito importante al enviar su sistema EUV número 100 en 2020.
La creación de luz EUV fue un reto monumental. ASML desarrolló un proceso único que involucra disparar diminutas gotas de estaño con láseres para generar el plasma necesario. Este método innovador hace que cada máquina opere como un «reactor de estrellas en miniatura», repitiendo el proceso 50,000 veces por segundo en ambientes de altísima pureza.
Mirando al futuro, ASML avanza hacia la EUV High-NA, una evolución que promete transistores aún más pequeños y con mayor densidad, introduciendo mejoras significativas en la resolución y productividad. Este cambio es crucial para gigantes tecnológicos como Intel, TSMC y Samsung, quienes ven en esta tecnología una oportunidad para mantener la competitividad y la vigencia de la Ley de Moore, aunque enfrentan el desafío del elevado costo de los equipos High-NA, que ascienden a 380 millones de dólares cada uno.
En sus 40 años de existencia, ASML ha pasado de ser un jugador más en el campo de la litografía a convertirse en un pilar esencial del sector de semiconductores, cumpliendo un rol estratégico en una industria dominada por fuerzas globales. La empresa se enfrenta ahora al desafío de continuar innovando en un mercado en constante evolución, donde la presión por miniaturizar y hacer más potentes los chips nunca ha sido tan intensa. La historia de ASML es, sin duda, un reflejo del poder de la innovación y la tecnología en la era digital.
