La carrera por el dominio de la tecnología de semiconductores ha experimentado un potencial cambio de paradigma con las recientes informaciones sobre el avance de China en la litografía de ultravioleta extremo (EUV). Durante años, la idea de que China no podía producir su propio equipo EUV ha constituido una verdad tácita en las industrias de chips, marcando una diferencia tecnológicamente significativa respecto a sus competidores occidentales, especialmente a ASML, el líder mundial en sistemas EUV. Sin embargo, la noticia de un prototipo de escáner EUV funcional desarrollado por China puede ser el inicio de un reajuste en el tablero global.
La creación de un prototipo por parte de China no implica inmediatamente producción masiva, pero sí desafía la noción del «imposible» y abre la puerta a nuevas estrategias locales. La tecnología EUV no es simplemente una máquina más dentro de una fábrica; representa uno de los cuellos de botella más críticos en la producción de semiconductores de vanguardia. Su complejidad es tal que requiere mantener operaciones extremadamente precisas y repetibles en entornos controlados. Hasta ahora, solo ASML podía proveer estos equipos, lo que le otorgaba una posición de casi monopolio.
La aparición de un prototipo EUV en China es significativa por varias razones. Desde un punto de vista técnico, aunque un prototipo puede demostrar viabilidad en condiciones controladas, debe ser capaz de alcanzar un rendimiento sostenible y mantenerse estable para ser viable en producción masiva. Estrategicamente, este avance podría reducir la dependencia tecnológica de China y marca el inicio de una potencial ruta de desarrollo doméstico.
Mientras tanto, Occidente tampoco baja la guardia. Empresas como Intel y ASML están avanzando hacia la próxima frontera tecnológica con el desarrollo de High NA EUV, una evolución que promete mejorar resolución y productividad para los nodos futuros. Este desarrollo subraya la velocidad a la que la industria debe operar para mantener su liderazgo, incrementando la productividad y el control en el proceso de manufactura de chips.
La trascendencia de que China pueda avanzar hasta convertir su prototipo en un sistema operativo EUV no es solo técnica, sino también financiera y política. La mera capacidad de desarrollar su propio EUV crea incertidumbre en los mercados y cuestiona si el monopolio puede ser sostenido. A corto plazo, el impacto se sentirá más en la narrativa y en las decisiones de inversión, impulsando a las empresas chinas a reconsiderar sus estrategias y a Occidente a reforzar sus líneas de desarrollo e innovación continua.
Las interrogantes que la industria se plantea ahora giran en torno a qué partes del sistema EUV chino son realmente de producción local, la estabilidad operativa y la productividad que podría alcanzar en condiciones reales de fábrica. Sin respuestas claras a estas preguntas, el prototipo sigue siendo más un hito estratégico que una revolución industrial.
De confirmarse este avance, el panorama global se movería hacia una «dependencia negociada», donde la independencia completa no se logra de inmediato, pero sí se reduce la dependencia externa con el tiempo. Para Europa y Estados Unidos, este nuevo escenario significa que la ventaja competitiva debe defenderse con constante innovación y eficiencia industrial.
En el mundo de los semiconductores, las victorias rara vez se logran de un solo golpe. Son el resultado de una persistente presión y progreso que, de no ser contrarrestado adecuadamente, puede desgastar incluso al líder más asentado.
