La competencia por avanzar en la fabricación de chips ha sumado un nuevo contendiente en el escenario internacional. La startup xLight, con sede en Estados Unidos y respaldada por el exlíder de Intel, Pat Gelsinger, ha firmado una carta de intención con el Departamento de Comercio de EE. UU. para acceder a incentivos federales que podrían alcanzar los 150 millones de dólares, según lo estipulado en la Ley CHIPS y Ciencia. Este financiamiento está destinado a desarrollar una innovadora fuente de luz para litografía extrema ultravioleta (EUV) empleando un láser de electrones libres (FEL), diferente a las fuentes de plasma actuales utilizadas principalmente por ASML.
Aunque la carta de intención no es un acuerdo vinculante, marca el primer gran movimiento de la oficina de I+D de CHIPS en la era de la Administración Trump, posicionando a xLight en el centro de la estrategia americana para recuperar influencia en esta tecnología determinante dominada por ASML en Europa.
El acuerdo propone hasta 150 millones de dólares en incentivos para financiar el diseño y prueba de un prototipo de fuente EUV basada en FEL en Albany Nanotech Complex, Nueva York. Además de aportar recursos económicos, el gobierno estadounidense tomará parte como accionista en la empresa, emulando precedentes en otras empresas estratégicas como Intel.
El objetivo de xLight es rediseñar el proceso actual de producción de luz EUV, que hoy utiliza un complejo método basado en plasma, hacia un sistema utilizando un láser de electrones libres. Esta tecnología implicaría menos consumo energético, mayor brillo, y un espectro más preciso, incrementando la eficiencia en la fabricación de semiconductores avanzados. Pat Gelsinger ha vinculado este proyecto con la evolución de la Ley de Moore, al prever que una tecnología EUV más eficiente podría disminuir los costos por chip y extender la viabilidad de avanzar hacia transistores más diminutos.
Sin embargo, xLight aún enfrenta el reto de validar que su sistema operará establemente bajo las estrictas condiciones de la producción de semiconductores, y que podrá integrarse con los escáneres EUV actuales, cuyo costo cifra entre 200 a casi 400 millones de dólares por unidad.
El potencial de xLight para cambiar el equilibrio en la litografía avanzada llega en un momento crítico en que Estados Unidos busca no solo atraer la manufactura de chips, sino también recuperar el control sobre segmentos esenciales de la cadena de producción. La litografía EUV es crucial, ya que sin ella, no se pueden producir chips de última generación.
Este movimiento de la administración Trump refleja un doble enfoque: usar los recursos de la Ley CHIPS para apostar por una innovación disruptiva y asegurarse de que las próximas generaciones de herramientas de fabricación queden bajo el control estadounidense. Si xLight tiene éxito, podría desafiar la posición de ASML y cambiar el panorama de la industria de semiconductores, pero si no, resaltará los desafíos inherentes en la expansión de los límites de la litografía avanzada. Por ahora, el proyecto ha captado atención global con su impulso de 150 millones de dólares.
