Rusia ha dado a conocer un plan ambicioso que podría posicionarla de manera destacada en la carrera mundial por la fabricación de chips. La hoja de ruta, revelada por Dmitrii Kuznetsov, propone el desarrollo de litografía EUV y de rayos X para producir chips desde 65 nm hasta resoluciones por debajo de 10 nm entre 2026 y 2037. Este proyecto comprende un cronograma agresivo, que abarca desde steppers de 40 nm en 2026 hasta EUV plena en 2037, y se basa en tecnologías distintas de las occidentales, como láseres híbridos de estado sólido, fuentes de plasma de xenón y espejos de rutenio/berilio.
El plan ruso no solo contempla un calendario detallado, sino que también ofrece argumentos económicos y técnicos. Según la propuesta, el uso de EUV a 11,2 nm podría abaratar los procesos frente a la tecnología DUV por inmersión en nodos de 14–65 nm, al eliminar la necesidad de inmersión y múltiples exposiciones. Además, esta línea prometería una reducción del consumo energético a un tercio y resolvería problemas de contaminación por estaño.
El Instituto de Física de Microestructuras de la Academia Rusa de Ciencias ha sido el encargado de trazar este roadmap, que incluye metas precisas hasta 2037. Durante este período, Rusia planea introducir equipos innovadores, como escáneres con capacidades de múltiples nanómetros y productividades notables. Sin embargo, en comparación con Occidente, que avanzó más allá del hito de 28/14 nm hace más de una década, la ruta rusa todavía está retrasada en el calendario.
Los esfuerzos españoles se centran en cambios técnicos significativos como la longitud de onda de 11,2 nm y la eliminación del estaño en la fuente de plasma. Sin embargo, cada innovación también enfrenta desafíos técnicos significativos, como la necesidad de ajustar reflectividades ópticas, desarrollar resists especializados y garantizar metrologías precisas.
Por otro lado, Kuznetsov menciona aportes históricos de científicos rusos a la tecnología EUV, sugiriendo que el enfoque ruso podría legitimar una competencia futura con ASML. No obstante, el proceso de industrialización de esta tecnología requerirá superar retos substanciales, como la validación del nuevo camino propuesto y la creación de un ecosistema de proveedores y soporte.
Si Rusia logra cumplir con sus objetivos, el impacto potencial podría ser significativo, presionando a los precios en los nodos maduros, reduciendo la dependencia de un único proveedor global para EUV, y diversificando el suministro tecnológico. Sin embargo, la viabilidad de este proyecto dependerá de hitos futuros y de un escepticismo saludable respecto a sus promesas.
La carrera será un desafío de gobernanza, recursos sostenidos y validaciones constantes en cada etapa. Aunque el camino ruso está marcado por la ambición y el deseo de innovar, el éxito dependerá de su capacidad para transformar la teoría en una realidad palpable y efectiva.
