El lanzamiento del primer proyecto chino para producir fotorresistentes EUV basados en óxidos metálicos (MOR) en Wuxi representa un avance significativo para la industria tecnológica del país. Este esfuerzo, anunciado durante la Conferencia de Innovación y Desarrollo de Circuitos Integrados 2025, busca instalar a China en el competitivo campo de los materiales de litografía avanzada, un área dominada hasta ahora por Japón y Estados Unidos.
La industria de semiconductores de China ha dependido históricamente de proveedores externos para los fotorresistentes de última generación. Estos materiales son cruciales para las máquinas de litografía EUV de ASML, cuyo acceso está sujeto a diversas restricciones de exportación por parte de Estados Unidos, Japón y Países Bajos.
El desarrollo local de los MOR EUV busca reducir la vulnerabilidad geopolítica de China, garantizar insumos críticos para empresas locales como SMIC y YMTC, y ofrecer una alternativa a la dependencia de grandes proveedores internacionales como Tokyo Ohka Kogyo y JSR que dominan el mercado global de resinas EUV.
SMIC, el mayor fabricante de semiconductores de China, podría beneficiarse significativamente de este avance, pues le permitiría avanzar hacia procesos de 5 nm y 3 nm. Por su parte, YMTC y CXMT podrían mejorar su competitividad en el mercado global de memorias NAND y DRAM respectivamente.
Sin embargo, el proyecto no está exento de desafíos. Los costes iniciales de producción son elevados debido a los requisitos de pureza extrema y estabilidad de los procesos. Además, el escalado industrial y la compatibilidad internacional representan obstáculos significativos, ya que se necesitarán certificaciones exhaustivas para ser aceptadas por grandes foundries como TSMC, Samsung o Intel.
Para los actores globales, la entrada de China en este mercado podría alterar el equilibrio actual. Si bien a corto plazo empresas como Tokyo Ohka Kogyo y JSR no verán cambios significativos, el éxito del proyecto chino en el mediano plazo podría reducir su cuota de mercado global. DuPont, enfocada en Estados Unidos y Europa, también podría ver mermado su crecimiento potencial en Asia.
En el ámbito de la inversión, las compañías japonesas no observarán un impacto inmediato. Sin embargo, el éxito del proyecto chino podría impulsar la narrativa de autosuficiencia tecnológica, beneficiando la valoración de empresas locales asociadas a la cadena de suministro de materiales.
La iniciativa de fotorresistentes EUV MOR no solo simboliza un avance técnico, sino también un mensaje estratégico, indicando que China está decidida a ser no solo consumidora sino también proveedora de materiales críticos para la litografía avanzada. Si logra superar los desafíos del escalado, las empresas chinas estarán más preparadas frente a sus competidores globales, mientras que los proveedores internacionales podrían perder acceso a un mercado lucrativo.
Este movimiento marca un cambio en el juego de los semiconductores, donde no solo las máquinas de ASML son clave, sino también cada componente químico que hace posible la próxima generación de chips.
