Durante la reciente Conferencia de Innovación y Desarrollo de Circuitos Integrados 2025, llevada a cabo en Wuxi, China ha mostrado su última jugada estratégica en el tablero global de semiconductores. Se ha dado a conocer el lanzamiento del primer proyecto nacional para la producción de resinas y fotoprotectores avanzados para litografía EUV (Extreme Ultraviolet Lithography), centrados en la tecnología MOR (Metal Oxide Resist).
La litografía EUV es crucial para fabricar chips de alta tecnología, permitiendo grabar patrones a escala de nanómetros. Hasta ahora, el mercado de estas herramientas estaba dominado por ASML y sus socios. Sin embargo, China ahora se posiciona como el primer país fuera de esta órbita en dominar uno de los componentes más críticos: los fotorresistentes.
Estos avances se deben a las limitaciones de los fotorresistentes tradicionales, conocidos como CAR (Chemical Amplified Resist), que no alcanzan la resolución necesaria para nodos de 5 nm o inferiores. En cambio, los MOR ofrecen mayor resolución, menor tasa de defectos y mejor estabilidad, posicionando a China a la altura de las soluciones más avanzadas.
Durante el evento en Wuxi se delinearon dos proyectos estratégicos: una línea piloto de fotorresistentes MOR EUV y otra de resinas EUV con síntesis en flujo continuo. Estas iniciativas buscan reducir la dependencia de importaciones y promover la fabricación nacional en nodos punteros.
La importancia de estos nuevos desarrollos trasciende los chips lógicos, extendiéndose al sector de memorias DRAM y, eventualmente, NAND Flash, permitiendo a los fabricantes chinos acortar distancias con gigantes como Samsung y TSMC.
Este movimiento llega en un contexto geopolítico cargado, con Estados Unidos y aliados imponiendo restricciones a la exportación de equipos EUV. Aun así, el control de materiales clave brindará a China un margen de maniobra crucial.
El desafío es considerable. Aparte de controlar la producción de fotorresistentes, China deberá asegurar procesos estables y coordinar con la cadena de valor global. Sin embargo, este paso representa un hito importante en su búsqueda de soberanía tecnológica, redefiniendo su posición en la cadena mundial de semiconductores.
En conclusión, el establecimiento de un centro para desarrollar fotorresistentes MOR EUV marca un antes y un después en la búsqueda de autonomía tecnológica por parte de China. Aunque persisten limitaciones en cuanto a equipos de litografía, la apuesta por innovación en materiales críticos puede cambiar el equilibrio en la industria global de chips.
